拓荆科技(688072):薄膜沉积拓展加速 混合键合打开广阔空间
本报告导读:
公司为国内薄膜沉积设备龙头,受益于先进制程及成熟制程扩产,订单有望维持高增长,看好公司长期发展。
投资要点:
维持“增持”评级,上调目标价至 190.8 元。公司为薄膜沉积设备龙头,跟随半导体市场复苏及下游晶圆厂积极扩产,公司在手订单充裕,我们上调公司2024-2026 年EPS 至2.95/4.66/6.86 元(前值为2.93/4.43/6.26 元)。考虑公司在薄膜沉积领域领先技术优势,充分受益先进及成熟制程扩产,订单迎来加速释放,叠加延伸布局混合键合设备领域,行业空间广阔,参考PE 及PS 两种估值法,上调目标价至 190.8 元。
国内薄膜设备龙头,厚积薄发业绩提速在即。公司是国内半导体薄膜沉积设备龙头,PECVD 国内市占率第一,纵向持续突破ALD、SACVD/ HDPCVD 等高难度设备,横向延伸混合键合等设备领域。
从2018 年至今,营业收入高增,近5 年CAGR 达60.9%,2024 年H1 公司收入12.67 亿元,同比+26.2%。从ROE 看,公司对比全球头部企业较低,主要受资产周转率拖累,22、23 年公司大量新产品处于验证期中,验证时间需要1~2 年。截至2023 年末公司在手订单64.23 亿元(不含Demo),公司订单持续高增,公司业绩有望提速。
公司薄膜沉布局行业领先,前瞻布局混合键合。薄膜沉积为前道核心设备,当前存量市场国产化率不足20%。PECVD 占薄膜沉积市场份额33%,占比第一,根据产业链调研,PECVD 在先进逻辑及存储用量较成熟产线提升30~50%。公司作为国内PECVD 龙头,有望跟随先进及成熟制程扩产放量。同时, 公司纵向布局SACVD/HDPCVD/ALD 等高端设备,在先进制程中用量大幅提升,公司为国内唯一实现SACVD 产业化的企业、首台HDPCVD 设备2023 年已通过验证、ALD 产能在上海临港大幅扩产,未来业绩可期。此外,公司前瞻性布局混合键合设备,混合键合作为实现高密度堆叠的终极方案,被应用于3D NAND、HBM 等领域,有望打开公司空间,公司W2W 和D2W 前表面预处理产品获得重复性订单,走在行业前列。
催化剂:先进制程扩产积极,公司高端产品验证通过风险提示:下游需求不及预期;技术进步不及预期