中微公司(688012)业绩点评:刻蚀持续高增长 MOCVD迎接回暖

类别:公司 机构:民生证券股份有限公司 研究员:王芳 日期:2021-05-06

  一、事件概述

      2021/4/27 公司公布2021 年一季报。21Q1 实现营业收入6 亿元,同比增长46%,实现归母净利润1.4 亿元,同增425%。

      二、分析与判断

      MOCVD 和刻蚀设备均实现高速成长

      21Q1:实现营收6 亿元,同增46%,其中刻蚀设备/MOCVD 分别为3.5/1.3 亿,分别同增64%和77%。毛利率41%,同增7pct。研发费用率14%,同增4%。此外,股权激励相关费用相比去年同期增加0.51 亿元( 根据公司公告, 2021-24 年分别为1.61/0.85/0.42/0.11 亿)。实现归母净利润1.4 亿元,同增425%。

      刻蚀受“大客户先进制程扩产延迟+存储未起量”影响,MOCVD 迎接回暖1)刻蚀设备:2020 年同比+59%,2021Q1 营收3.5 亿元,同比+64%,主要受国内大客户先进制程扩产延缓+存储产品未大规模起量影响。其中台湾客户2018 年贡献营收的11%、2020 年18%。目前CCP 刻蚀设备在逻辑芯片领域取得5nm 及以下产线重复订单、存储芯片重复订单稳步增长;ICP 刻蚀设备新品Primo nanova 已上产线进行验证,双反应台在客户端完成认证。

      2)MOCVD:迎接回暖。在2018 年达到峰值后,2019/2020 年同比-9%/-34%,连续两年下跌。2021Q1 营收133 百万元,同比+77%,Mini led 设备已处于客户验证阶段,持续关注下游新兴市场mini led、GaN/SiC 化合物半导体扩产情况。

      定增百亿,奠定长线布局

      公司实行三维发展战略,即半导体关键设备,泛半导体关键设备,其他新兴领域。公司拟募集资金不超过100 亿元,为未来长线发展奠定基础:

      1)中微临港总部和研发基地:投资37 亿,研究下一代半导体设备,建设期5 年。

      2)产业化基地:包括上海临港(定位新品)、南昌基地(定位成熟产品),共投资32 亿,建成后离子体刻蚀设备、MOCVD 设备、热化学CVD 设备、环境保护设备产能分别为630、120、220、180 腔/年,建设期5 年。

      3)科技储备资金:31 亿用于合作开发、对外投资及并购等。公司目前已投入检测机、太阳能设备、大面积显示屏、微观加工设备等。

      三、投资建议

      预计21-23 年公司营业收入分别为31/41/54 亿元,归母净利润分别为5/6/8 亿,对应估值分别为129/98/76 倍。参考SW 电子2021/4/30 最新TTM 估值83 倍,同时考虑到国产替代空间广大,公司为半导体设备龙头,我们认为公司低估,首次覆盖给予“推荐”

      评级。

      四、风险提示:

      中美贸易摩擦加剧,大客户出货量不及预期。