半导体:荷兰对光刻机出口进一步限制 国产化亟待加速

类别:行业 机构:天风证券股份有限公司 研究员:潘暕/程如莹/骆奕扬 日期:2023-03-14

  在美国持续施压对华禁运关键半导体技术的情况下,荷兰政府正准备对半导体设备实施新的出口限制。当地时间3 月8 日,荷兰贸易部长列斯杰·施赖纳马赫尔(Liesje Schreinemacher)在致立法者的一封信中表示,荷兰政府考虑了“技术发展和地缘政治背景”,准备对半导体设备实施新的出口限制,这些规定预计将在夏季之前公布。她在信中没有具体提及中国和荷兰半导体设备主要供应商ASML,但指出其中一项将受到影响的技术是“DUV”光刻技术。“出于国家和国际安全考虑,有必要尽快控制这项技术。”ASML 针对上述出口限制发布声明,表示额外的出口管制并不涉及所有浸没式光刻机,而只涉及所谓的“最先进的”设备。ASML 提到,这些控制措施需要时间才能转化为立法并生效,公司预计这些措施不会对此前发布的2023 年财务展望产生重大影响。ASML 强调,额外的出口管制并不涉及所有浸没式光刻机,而只涉及所谓的“最先进的”设备。尽管ASML 尚未收到有关“最先进”确切定义的更多细节,但ASML 将其解释为“关键沉浸”(criticalimmersion),ASML 将其定义为TWINSCAN NXT:2000i 和之后推出的浸没式系统。此外,ASML 指出,制程位于成熟节点的客户仍旧可以使用不太先进的浸没式光刻机。

      光刻机是制造芯片的核心装备,制造难度极大,国产光刻机仍较为落后。

      目前高端光刻机制造领域,全球只有少数几家公司能掌握,那就是荷兰的ASML,日本的尼康和佳能。中低端领域,国产光刻机龙头上海微电子(SMEE)能够触及。目前,上海微电子已经能实现90nm 量产(600 系列光刻机),正在攻克28nm 光刻机,与ASML 的技术实力仍有较大差距,国产光刻机亟待突破。

      在光刻机国产化道路上,零部件也是不可忽视的重要环节。在光刻机零部件中,KBBF 晶体主要用来制造深紫外激光器,而光刻机就是深紫外激光器的高端应用市场。2013 年,我国研制的全球首个深紫外固态激光器通过验收,成为当时全球唯一能够制造实用化深紫外全固态激光器的国家,为国产DUV 光刻机行业发展奠定坚实基础。而光学透镜则是保证光刻机高成像质量的关键组件,我国的茂莱光学的DUV 光学透镜已经在给上海微电子供货,助力我国半导体光刻机国产化。

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    风险提示:宏观不确定性,疫情继续恶化;贸易战影响;需求不及预期。