芯源微(688037)深度报告：立足核心赛道 前道设备迎来全面突破

前道涂胶显影设备国内唯一供应商。公司主营业务为光刻工序涂胶显影设备和单片式湿法设备,立足晶圆制造光刻环节的黄金赛道。2020 年以来公司业绩迎来爆发式增长,21 年Q1-Q3 公司实现营收5.47 亿元,同比高增158.20%,主要得益于涂胶显影后道设备旺盛需求、前道设备开始贡献业绩以及单片湿法设备的超预期表现。截止Q3 公司在手订单13.31 亿元,较20 年末新增5.63 亿元,其中前道新签订单同比增长221%,后道新签订单同比增长217%。为应对下游需求的增长,公司持续加大扩产力度,宣布定增预案,将募集资金不超过10 亿元,进行上海临港和沈阳二期两处项目扩产。供需两侧的同步扩张将奠定公司长期高增基础。

    涂胶显影:空间广阔,国产替代渡过起步期。涂胶显影是光刻环节的核心工序,在前道晶圆制造、后道先进封装、LED 等领域均有可观的用量。涂胶显影设备市场亦稳步增长,据VLSI 数据,2021 年全球涂胶显影设备市场规模将达23 亿美元。而当前市场格局呈现日本东京电子一家独大的场面,占据全球91%的市场份额。芯源微在后道涂胶显影领域有丰富、成熟的产品线,产品广泛应用于先进封装各环节,为国内领军者。自18 年以来,公司前道设备亦有顺利突破,Offline 设备在上海华力通过验证并完成验收,i-line、Krf、Arf 设备亦在长江存储、中芯绍兴、青岛芯恩等主流晶圆厂相继获得订单。

    湿法设备:产品线铺开,蓄势第二增长曲线。基于涂胶显影的技术积累,公司拓展单片湿法设备业务,横向延伸,成长空间打开。根据台湾工研院数据,2020 年全球湿法设备市场规模为49 亿美元,占半导体设备市场规模近10%,并随先进工艺带来的清洗步骤增加而持续增长。芯源微则在单片湿法设备有较广泛的覆盖,清洗、去胶、刻蚀均有布局,在物理刷片清洗领域为国内龙头,在中芯国际、上海华力等多个客户处通过验证,并获国内多家Fab 厂商的批量重复订单。

    盈利预测与投资评级:我们预计公司2021/22/23 年,营收分别为7.62/12.51/17.60 亿元,对应当前股价PS 分别为23/14/10 倍。对比同行业可比公司,芯源微当前估值仍处于合理区间。公司作为涂胶显影设备龙头,前道设备顺利突破,市占率有望持续提升。首次覆盖,给予“买入”评级。

    风险因素:行业周期性波动风险;下游客户扩产不及预期风险;国际贸易摩擦风险