捷佳伟创(300724)重大事项点评:定增助力光伏设备迭代升级 延伸半导体领域布局再攀高峰

类别:创业板 机构:华创证券有限责任公司 研究员:赵志铭/鲁佩 日期:2020-09-30

  事项:

    公司发布《2020 年度向特定对象发行A 股股票预案》,拟募集资金总额不超过25 亿元,扣除发行费用后,用于超高效太阳能电池装备产业化项目、先进半导体装备(半导体清洗设备及炉管类设备)研发项目以及补充流动资金。

      评论:

    定增扩充产能,加速光伏设备升级迭代

      超高效太阳能电池湿法设备及单层载板式非晶半导体薄膜CVD 设备产业化项目拟投入9.99 亿元,其中产业化验证投入2.11 亿元,建设期为2 年,完全达产后,每年新增20GW PERC+高效新型电池湿法设备,新增20GW HJT 超高效新型电池湿法设备及单层载板式非晶半导体薄膜CVD;二合一透明导电膜设备PAR 产业化项目拟投资3.34 亿元,建设期2 年,达产后每年将新增50套HJT 电池镀膜设备。

      在光伏电池片向大尺寸迭代,以及电池厂商竞争性扩产的驱动下,PERC 电池产能扩张仍具动能,根据我们的统计,2020 年PERC 产能扩张规模有望超过60GW,公司作为PERC 设备龙头有望受益。近日公司开发的最新一代HJT 关键量产设备RPD5500A 完成厂内装配调试,根据厂内样品测试数据,同等条件下将在常规HJT 基础上带来0.6%以上的效率增益,有望助力HJT 技术降本增效。本次定增项目有望加速公司在PERC+及HJT 等高效电池片设备的技术升级迭代,助力公司分享行业技术升级+扩产红利。

    延伸半导体领域布局,再攀高峰

      先进半导体装备(半导体清洗设备及炉管类设备)研发项目拟投入6.46 亿元,其中4.96 亿元用于样机研发和测试,建设期3 年,主要从事Cassette-Less 刻蚀设备和单晶圆清洗设备技术的改进与研发,立式炉管常压化学气相沉积设备、立式炉管低压化学气相沉积设备、立式炉管低压原子气相沉积设备以及立式炉管HK ALO/HFO2 工艺设备技术的改进与研发。

      公司自2019 年启动湿法工艺设备研发,借助在光伏领域积累的优势,切入集成电路市场,2020 年成立半导体研发事业部,切入半导体工艺设备研发。清洗设备在晶圆产线设备总投资中占比约为5%~6%,据SEMI 预测,到2021 年,我国大陆半导体设备市场规模有望达到164 亿美元,对应清洗设备市场空间有望达到9 亿美元。公司延伸半导体领域布局,长期有望打造新业绩增长点。

    盈利预测、估值及投资评级:我们维持预计公司2020-2022 年实现归母净利润5.81、8.05、10.43 亿元,考虑到增发后的股本变化,备考EPS 1.80、2.50 和3.24 元(按照发行股份数量上限计算),对应PE 57、46 和35 倍。考虑到光伏电池片正处在技术升级迭代过程中,公司产品体系丰富,前瞻性研发布局成效初现,有望受益行业技术升级和产能扩张而实现快速成长,同时启动半导体设备研发打开更大成长空间,给予2022 年40 倍PE,上调目标价至129.88 元,维持“推荐”评级。

    风险提示:下游扩产不及预期,研发设备量产效果不及预期,HJT 产业化不及预期,设备环节竞争格局恶化。