中微公司(688012):半导体设备龙头 国产替代前景可期

类别:公司 机构:开源证券股份有限公司 研究员:刘翔 日期:2021-01-20

  公司竞争优势明显,国产替代需求紧迫,给予“买入”评级随着半导体行业逐渐回暖,半导体产业向国内转移,存储、Foundry 等厂商扩产,提升对上游设备的需求;IC 制造工艺升级,刻蚀工艺使用频率及技术要求提升。

      中微公司技术领先,客户资源优秀,发布定增预案,拟定增100 亿元扩产,未来竞争力将进一步加强,前景可期。我们上调公司盈利预测,预计公司2020-2022年归母净利润3.37/4.78/6.84 亿元(+0.86/+1.87/+1.32 亿元),EPS 0.63/0.89/1.28(+0.16/+0.35/+0.25),当前股价对应PE 276.3/194.8/136.0 倍,上调评级为“买入”。

      刻蚀设备空间巨大,MOCVD 设备前景可期

      半导体刻蚀设备全球市场规模2019 年达115 亿美元,CR3 超90%,中国市场规模超180 亿元,“新应用+产业转移+工艺进步”使国内刻蚀设备厂商获发展良机。

      MOCVD 设备:中国已成全球MOCVD 设备最大的需求市场,保有量占全球比例超过40%。目前MOCVD 设备下游应用主要为蓝光LED,随技术的进步,MOCVD 设备还有望逐步应用在黄红光LED、深紫外LED,以及Mini LED、Micro LED、功率器件等诸多新兴领域,市场规模会有望进一步扩大。

      公司核心竞争力强大,持续新品开发,未来增长可期公司技术积累深厚,部分技术已达国际标准,同时汇聚优秀人才与管理团队,客户资源优秀,持续开发高端新品,未来增长可期:(1)公司刻蚀设备已运用在国际知名客户65nm 到7nm 生产线;公司已开发出5nm 刻蚀设备,并已获得批量订单,正在开发更先进工艺(2)公司CCP 设备可应用于3D NAND 64 层的量产,同时正在开发能够涵盖128 层刻蚀以及对应的极高深宽比的刻蚀设备和工艺(3)拓展MOCVD 新兴应用领域,深紫外光LED 已获领先客户验证成功。用于Mini LED、Micro LED、功率器件等生产的MOCVD 设备正在开发中。公司拟定增100 亿元扩产,未来竞争力有望进一步提升。

      风险提示:国际贸易摩擦加剧风险、下游客户扩产不及预期的风险、国产化进展缓慢、公司新产品开发验证不及预期